标准编号：GB/T 16879-1997
中文名称：掩模曝光系统精密度和准确度的表示准则
英文名称：Guidelines for precision and accuracy expression for mask writing equipment
发布日期：1997-06-20
实施日期：1998-03-01
归口单位：全国半导体设备和材料标准化技术委员会
批准发布部门：国家标准化管理委员会
起草单位
中国科学院微电子中心
标准范围
本准则规定了在表示掩模曝光设备的精密度和准确度时应遵循的一般要求。掩模曝光设备的图形曝光精密度和准确度是通过测量制成的掩模来评估的，掩模制造过程中的工艺条件对它有很大影响。所以，曝光条件应经厂家和用户双方同意。
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