SJ/T 10627-1995 通过测量间隙氧含量的减少表征硅片氧沉淀特性的方法
| 标准号 | SJ/T 10627-1995 | 标准名称 | 通过测量间隙氧含量的减少表征硅片氧沉淀特性的方法 |
| 发布日期 | 1995-04-22 | 实施日期 | 1995-10-01 |
| 废止日期 | 代替以下标准 | ||
| 提出单位 | None | 归口单位 | |
| 批准发布部门 | 电子工业部 | ||
| 中国标准分类 | H82 | ||
| 国际标准分类 | None | ||
| 起草人 | |||
| 起草单位 | |||
| 适用范围 | |||
| 首页预览图 | |||
| 标准号 | SJ/T 10627-1995 | 标准名称 | 通过测量间隙氧含量的减少表征硅片氧沉淀特性的方法 |
| 发布日期 | 1995-04-22 | 实施日期 | 1995-10-01 |
| 废止日期 | 代替以下标准 | ||
| 提出单位 | None | 归口单位 | |
| 批准发布部门 | 电子工业部 | ||
| 中国标准分类 | H82 | ||
| 国际标准分类 | None | ||
| 起草人 | |||
| 起草单位 | |||
| 适用范围 | |||
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