标准编号：YS/T 719-2009
中文名称：平面磁控溅射靶材 光学薄膜用硅靶
发布日期：2009-12-04
实施日期：2010-06-01
归口单位：全国有色金属标准化技术委员会
批准发布部门：工业和信息化部
起草人
李智超、杨太礼 等
起草单位
利达光电股份有限公司
标准范围
本标准规定了平面磁控溅射光学薄膜用硅靶材的要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输、贮存及订货单（或合同）内容。本标准适用于平面磁控溅射光学薄膜用硅靶材。
YS/T 719-2009 平面磁控溅射靶材 光学薄膜用硅靶
立即下载标准文件大家都在看
- YS/T 715.4-2009 二氧化硒化学分析方法 第4部分：灼烧残渣的测定 重量法
- YS/T 820.11-2012 红土镍矿化学分析方法 第11部分：氟和氯量的测定 离子色谱法
- YS/T 536.1-2009 铋化学分析方法 铜量的测定 双乙醛草酰二腙分光光度法
- YS/T 437-2009 铝合金型材截面几何参数算法及计算机程序要求
- YS/T 710.2-2009 氧化钴化学分析方法 第2部分：钠量的测定 火焰原子吸收光谱法
- YS/T 555.5-2009 钼精矿化学分析方法 磷量的测定 磷钼蓝分光光度法
- YS/T 281.6-2011 钴化学分析方法 第6部分：镁量的测定 火焰原子吸收光谱法
- YS/T 536.4-2009 铋化学分析方法 银量的测定 火焰原子吸收光谱法和电热原子吸收光谱法
- YS/T 566-2009 双金属带
- YS/T 509.6-2008 锂辉石、锂云母精矿化学分析方法 五氧化二磷量的测定 钼蓝分光光度法