YS/T 819-2012 电子薄膜用高纯铜溅射靶材

标准编号：YS/T 819-2012

中文名称：电子薄膜用高纯铜溅射靶材

发布日期：2012-11-07

实施日期：2013-03-01

归口单位：全国有色金属标准化中心

批准发布部门：工业和信息化部

起草人

王学泽、宋佳 等

起草单位

宁波江丰电子材料有限公司、有研亿金新材料股份有限公司

标准范围

本标准规定了电子薄膜用高纯铜溅射靶材的要求、试验方法、检验规则和标志、包装、运输、贮存、质量证明书及合同（或订货单）内容。本标准适用于电子薄膜制造用的各类高纯铜溅射靶材。

标准预览图