XB/T 512-2020 镝、铽金属靶材
| 标准号 | XB/T 512-2020 | 标准名称 | 镝、铽金属靶材 |
| 发布日期 | 2020-12-09 | 实施日期 | 2021-04-01 |
| 废止日期 | 代替以下标准 | ||
| 提出单位 | None | 归口单位 | |
| 批准发布部门 | 工业和信息化部 | ||
| 中国标准分类 | None | ||
| 国际标准分类 | None | ||
| 起草人 | |||
| 起草单位 | |||
| 适用范围 | 本标准适用于真空冶炼法制得的镝、铽金属靶材，主要用于制备钕铁硼磁控溅射镀膜等。 |
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| 首页预览图 | |||
| 标准号 | XB/T 512-2020 | 标准名称 | 镝、铽金属靶材 |
| 发布日期 | 2020-12-09 | 实施日期 | 2021-04-01 |
| 废止日期 | 代替以下标准 | ||
| 提出单位 | None | 归口单位 | |
| 批准发布部门 | 工业和信息化部 | ||
| 中国标准分类 | None | ||
| 国际标准分类 | None | ||
| 起草人 | |||
| 起草单位 | |||
| 适用范围 | 本标准适用于真空冶炼法制得的镝、铽金属靶材，主要用于制备钕铁硼磁控溅射镀膜等。 |
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