T/CIE 132-2022 磁控溅射设备薄膜精度测试方
| 标准号 | T/CIE 132-2022 | 标准名称 | 磁控溅射设备薄膜精度测试方 |
| 发布日期 | 2022-08-10 | 实施日期 | 2022-08-10 |
| 废止日期 | 代替以下标准 | ||
| 团体名称 | 中国电子学会 | ||
| 中国标准分类 | J78 | ||
| 国际标准分类 | 23.160 | ||
| 起草人 | 赵巍胜、张博宇、程厚义、Sylvain EIMER、彭守仲、许涌、Pierre VALLOBRA、王子路、姚宇暄、许人友、葛继尧、杜寅昌、杜鸿基、李殿浦、杨玉杰、王戈飞、刘宏喜、郭玮、何帆 | ||
| 起草单位 | 北京航空航天大学、合肥致真精密设备有限公司、合肥致真智能装备有限公司、北京维开科技有限公司、北京北方华创微电子装备有限公司、致真存储(北京)科技有限公司、深圳亘存科技有限责任公司 | ||
| 适用范围 | 本文件规定了磁控溅射设备薄膜精度的测试方法，测试原理，被测件，测试环境和测试程序等。 本文件适用于磁控溅射设备沉积薄膜精度的验证。 |
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