标准编号：T/CIE 132-2022
中文名称：磁控溅射设备薄膜精度测试方
英文名称：Test methods for thin film thickness of magnetron sputtering equipment
发布日期：2022-08-10
实施日期：2022-08-10
批准发布部门：中国电子学会
起草人
赵巍胜、张博宇、程厚义、Sylvain EIMER、彭守仲、许涌、Pierre VALLOBRA、王子路、姚宇暄、许人友、葛继尧、杜寅昌、杜鸿基、李殿浦、杨玉杰、王戈飞、刘宏喜、郭玮、何帆
起草单位
北京航空航天大学、合肥致真精密设备有限公司、合肥致真智能装备有限公司、北京维开科技有限公司、北京北方华创微电子装备有限公司、致真存储(北京)科技有限公司、深圳亘存科技有限责任公司
标准范围
本文件规定了磁控溅射设备薄膜精度的测试方法，测试原理，被测件，测试环境和测试程序等。
本文件适用于磁控溅射设备沉积薄膜精度的验证。
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